共磁控溅射镀膜系统
共磁控溅射镀膜系统
资产编号：
2214800S
联系人：
王成园
联系电话：
18396863960
邮箱：
规格：
4靶位、6英寸磁控溅射
放置地点：
Array济南(软件园校区)教研楼-104-104
生产厂家：
制造国家：
购置日期：
2022-10-11
入网日期：
2023-03-15
型号：
MSP-300CT
预约 送样
购置日期：
2022-10-11
入网日期：
2023-03-15
资产负责人：
王成园
购置日期：
2022-10-11
仪器价格：
1098000
仪器产地：
分类号：
0306030201
出厂日期：
2022-10-11
主要规格及技术指标:

1.不锈钢真空室，真空室门上带有观察窗；
2.无油分子泵和干泵，真空室极限真空优于5E-7 torr，从大气抽真空到5e-6 Torr小于30分钟。
？ 3.六英寸片可旋转样品盘，普通可旋转样品盘，转速0-20rpm，最大加热温度：500摄氏度；
？ 4.至少4个共焦3英寸溅射源靶枪，靶枪和工件盘距离可调。
？ 5.三路MFC；
？ 6.至少2个射频源，射频输出功率不低于300W，1个直流源，射频输出功率不低于1000W，1套偏压电源。
？ 7.六英寸范围内沉积均匀性≤±5%；批次间重复性≤±3%：；

主要功能及特色:

通过磁控溅射技术生长材料

主要附件及配置:

无

公告名称 公告内容 发布日期