配置包括：主机，压电陶瓷控制测角台，单倾样品杆，铍双倾样品杆，电镜控制工作站，一体化STEM系统，能谱仪，磁畴观察系统，轻元素成像系统，CMOS数字相机系统，三维重构软硬件系统，机器校正用标准样品，备用电源，空气压缩机，循环水冷机等： 工作条件 1.1电力供应：220V (+6% / -10%)，50Hz (+/-1%) 1.2工作温度：18℃ - 23℃ 1.3工作湿度：< 80% @ 20℃ 1.4磁场：水平 <80 nTp-p, 垂直水平 <100 nTp-p 1.5安装条件：设备接地线电阻 ≤ 1欧姆 1.6仪器运行的持久性：仪器可连续使用 2、 技术要求 2.1电子枪 2.1.1优选超亮型场发射电子枪或冷场发射型电子枪； 2.1.2加速电压20～200kV连续可调； 2.1.3电压稳定性指标：≤ 1ppm/min。 *2.1.4 电子枪亮度：≥1.8x109 A/cm2 srad 2.2 电子透镜 2.1自动光阑系统，带位置记忆功能； 2.2可快速切换TEM/STEM模式； *2.3物镜极靴间距兼容原位样品杆，≥5mm。 2.3 TEM模式 2.3.1信息分辨率：≤0.12nm (安装验收值)，FFT图像直接测量； 2.3.2放大倍数 25-1,000,000x。 2.4 扫描透射模式 (STEM) 2.4.1 STEM四探头高角环形暗场、明场、环形明场、环形暗场探头； 2.4.2 STEM分辨率≤0.16nm(安装验收值) ; *2.4.3 STEM放大倍数范围310-330M； 2.4.4 HRTEM和HRSTEM之间可快速切换，时间≤60S； 2.4.5可同时采集4x幅来自不同角度的STEM电子信号图像，进行对比观察。 2.5 CMOS相机 2.6 样品台 2.7 样品杆 2.8 真空系统 2.9 能谱 2.10三维重构系统

融合了卓越的高分辨率STEM和TEM成像，利用智能扫描引擎、基于多个STEM探测器的四通道合并技术，以及微分相位衬度（DPC/iDPC）成像技术，可以从多个维度快速、准确地分析材料的结构、成分信息，同时可选定特定设计的样品台进行原位动态实验，可用于材料科学、材料化学、物理化学等多个科学领域。

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